白光干涉测厚

基于白光干涉原理的纳米级厚度测量设备,可同时测量多层薄膜的厚度和折射率,满足光学级产品的严苛检测要求。

光学检测系列

白光干涉测厚

基于白光干涉原理的纳米级厚度测量设备,可同时测量多层薄膜的厚度和折射率,满足光学级产品的严苛检测要求。

核心特点

白光干涉原理
纳米级测量精度
多层膜厚同时测量
折射率同步测量
非接触式测量
适用多种透明材料
测量软件功能强大
支持数据导出

技术参数

参数项目指标
测量原理白光干涉法
测量范围1nm - 100μm(单层)
测量精度±0.1nm
可测层数最多10层
测量点数最多1024点
适用幅宽50-500mm
光源白光LED
工作温度20±5℃
电源要求220V±10% 50Hz

应用场景

1
光学薄膜
2
半导体晶圆
3
显示面板
4
纳米涂层
5
AR/VR镜片

推荐行业

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